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Deposición en vacío

Plasma sources

Fuentes de plasma

Plasma source form Mantis Deposition
The MATS sources generate an inductively coupled plasma to dissociate various gases that include nitrogen, oxygen, hydrogen and other molecular gases. Using RF (13.56 MHz) powered coil, the energy is transferred to the plasma, which results in a "soft" plasma that has minimal ion energy.
Visit the Mantis Deposition site for more detailed information.
Las fuentes MATS generan un plasma inductivamente acoplado para disociar varios gases, que incluyen el nitrógeno, oxigeno, hidrogeno y otros gases moleculares. Usando espirales potenciados por RF (13,56 MHz), la energía se transfiere al plasma, lo cual resulta en plasma “blando” con energía iónica mínima.
Visita el sitio web de Mantis Deposition para obtener información más detallada.
IntroductionIntroducción
IntroductionIntroducción
The MATS sources generate an inductively coupled plasma to dissociate various gases that include nitrogen, oxygen, hydrogen and other molecular gases. Using RF (13.56 MHz) powered coil, the energy is transferred to the plasma, which results in a "soft" plasma that has minimal ion energy.
The MATS sources deliver high volume flux of electrostatically neutral atoms that are excellent for epitaxial growth of nitrides and oxides. The radicals are highly reactive and have a low kinetic energy and will not damage the epitaxial structure. A small amount of ions are generated in the process, but MATS sources can be equipped with charge deflection plates to ensure that the flux reaching the substrate is neutral.
Las fuentes MATS generan un plasma inductivamente acoplado para disociar varios gases, que incluyen el nitrógeno, oxigeno, hidrogeno y otros gases moleculares. Usando espirales potenciados por RF (13,56 MHz), la energía se transfiere al plasma, lo cual resulta en plasma “blando” con energía iónica mínima.
Las fuentes MATS entregar un flujo de alto volumen de átomos electrostáticamente neutros con gran aptitud para el crecimiento epitaxial de nitruros y óxidos. Los radicales son altamente radiactivos con baja energía kinética y no dañarán la estructura epitaxial. Una pequeña cantidad de iones son generados durante el proceso, pero las fuentes MATs pueden equiparse con placas de deflección de carga, para asegurar que el flujo que llega al sustrato es neutro.
Applications
- MBE: oxides; nitrides; doping
- Atomic hydrogen processing
Aplicaciones
- MBE: óxidos; nitruros; adulteramiento
- Procesamiento de hidrógeno atómico
Plasma source form Mantis deposition
Features
Características
Features
Características
The MATS source is designed with all metal vacuum seal and is fully bakeable to 250° C and is UHV compatible. The plasma discharge tube is constructed from a high purity ceramic that is dependent on the operating gas of the source. The robust induction coil is internally water cooled. Additionally, the gas inlet of the source is water cooled that helps to eliminate impurities from being outgassed from the steel of the gas inlet. The tip of the source is also water cooled and coupled to the exterior shields.
MATS30
The MATS30 is Mantis Deposition's most popular atom source for epitaxial growth processes. The standard 63 CF flange mount allows the source to be integrated to almost any commercially available MBE system. High plasma density allows typical growth rates of 1 micron per hour deposition rate for epitaxial materials. The MATS30 is fully servicable by the user.
MATS60
The MATS60 is a large scale atom source that is ideal for production and pilot production applications. The large aperture delivers uniform coverage across large samples and platens used in the production environment. Mounted on a standard 100 CF flange, the MATS60 can be integrated to most large scale deposition systems. The MATS60 source is also proven in high throughput atomic hydrogen processes.
Las fuentes MATS están diseñados con un sello de vacío totalmente metálico y pueden calentarse hasta 250º C y son compatibles con UHV. El tubo de descarga del plasma está hecho de una cerámica de alta pureza que depende del gas operativo de la fuente. El espiral de inducción es robusto y es enfriado internamente por agua. Además la entrada del gas es enfriado por este agua, lo cual ayuda a evitar que las impurezas sean desgasificadas del acero de la entrada del gas. La punta de la fuente es también enfriado por agua y acoplado a los escudos exteriores. Esto ayuda a que la fuente permanezca fría durante la operación, y mantiene la impecabilidad UHV.
MATS30
La MATS30 es la fuente atómica más popular para procesos de crecimiento epitaxial de Mantis Deposition. El montaje estándar bridal de 63 CF permite que la fuente se integre en casi cualquier sistema MBE disponible comercialmente. La alta densidad plásmica permite tasas típicas de crecimiento de 1 micrón por hora de tasa de deposición para materiales epitaxiales. El mantenimiento del MATS30 puede llevarse a cabo por el usuario.
MATS60
La MATS60 es una fuente atómica a gran escala, ideal para producción y aplicaciones de producción pilotos. La gran apertura aporta cobertura uniforme para muestras grandes y platinas usadas en el ambiente productivo. Montado en una brida estándar 100 CF, el MATS60 puede integrarse en la mayoría de sistemas grandes de deposición. La fuente MATS60 es además excelente en procesos de alto caudal de hidrógeno atómico.
Options
Opciones
Options
Opciones
Automatic matching network
We supply automatic matching units to ensure a perfectly tuned sources at a push of a button.
Plasma Emission Monitoring
Optical plasma emission monitoring can provide an insight into which molecular and atomic species are being generated in the plasma. The optical emission monitoring can be achieved by attaching a spectrometer to the plasma source and monitoring plasma emission lines through provided software package.
Manual or Automatic Shutters
The MATS sources can be outfitted with an integral manual or automatic shutter. The shutters feature a rotary feedthrough which is magnetically coupled to ensure longevity.
Beam Thermaliser
A beam thermaliser can be added to the end of the source to ensure that all atoms leaving the source are at thermal energy.

Discharge Tubes
The discharge zone is manufactured from high-quality materials ensuring minimal contamination of the beam. The discharge tube can be made out of PBN, quartz or alumina depending on your application.
Red automática de adaptación
Suministramos unidades automáticas de adaptación para asegurar fuentes perfectamente sincronizadas con tan sólo pulsar un botón.
Monitorización de emisiones de plasma
La monitorización de emisiones ópticas de plasma puede aportarnos información en cuanto a qué especies moleculares y atómicas se están generando en el plasma. La monitorización óptica de emisiones puede conseguirse mediante la agregación de un espectrómetro a la fuente del plasma y monitorizando líneas de emisión del plasma mediante el paquete de software que se aporta.
Obturadores manuales o automáticos
Las fuentes MATS pueden equiparse con obturadores manuales o automáticos. Los obturadores tienen un pasamuros rotatorio que está acoplado magnéticamente para asegurar una vida media larga.
Termalizador del haz
Un termalizador del haz puede incorporares al final de la fuente para asegurar que todos los átomos que salen de la fuente, son de energía termal.

Tubos de descarga
La zona de descarga está formada por materiales de alta calidad, asegurando mínima contaminación del haz. El tubo de descarga puede estar compuesto de PBN, cuarzo o aluminio, dependiendo de la aplicación.
Specifications
Especificaciones
Specifications
Especificaciones
Model MATS30 MATS60
RF. Power 30 - 600 W 30 - 600 W
Gas Compatibility O2, N2, H2 CH4... O2, N2, H2 CH4...
In-vacuum diameter 57 mm 96 mm
Mounting Flange 63 CF 100 CF
Standard In-vacuum Length 290 mm 290 mm
Minimum Cooling Water (0.5 l/min) Water (0.5 l/min)
Gas Flow (aperture and gas dependent) 0.1 - 20 sccm 0.1 - 20 sccm
Modelo MATS30 MATS60
Potencia RF 30 - 600 W 30 - 600 W
Compatibilidad de gases O2, N2, H2 CH4... O2, N2, H2 CH4...
Diámetro en vacío 57 mm 96 mm
Brida de montaje 63 CF 100 CF
Longitud estándar en vacío 290 mm 290 mm
Enfriamiento mínimo Agua (0.5 l/min) Agua (0.5 l/min)
Flujo de gas (dependiente del gas y apertura) 0,1 - 20 sccm 0,1 - 20 sccm
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Effusion cellsCélulas de efusión
SputteringPulverización catódica
NanoparticlesNanopartículas
Themal gas crackersCrackers de gas termales
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SourcesFuentes de deposición
HEX seriesSerie HEX
NANOSYS seriesSerie NANOSYS
QUBE seriesSerie QUBE
QPREP seriesSerie QPREP
M seriesSerie M
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Quartz crystal sensorsSensores de crystal de cuarzo
MonitorsMonitores
ControllersControladores
Thin film monitors and controllersControladores y monitores de deposición
ControllersControladores
Wide rangeAmplio rango
High precisionAlta precisión
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Manipulators for surface scienceManipuladores para la ciencia de superficies
TetrAxe - XYZTTetrAxe - XYZT
XYZ MultiStageMultiStage XYZ
XY stagesPlataformas XY
Y - shiftsDesplazamiento Y
Simple manipulatorsManipuladores sencillos
Heater modulesMódulos calefactores
Radial telescopic transfer armRadial telescopic transfer arm
Sample transferTransferencia de muestra
Magnetically coupledAcoplado magnéticamente
Push-pull devicesAparatos push-pull
Viewport shuttersObturadores para mirillas
Source shuttersObturadores rotatorias
ShuttersObturadores
LSM & HLSMLSM y HLSM
Linear movement and alignmentMovimiento lineal y alineación
CLEANSORB® stand-alone columnsSerie autónoma CLEANSORB®
Exhaust gas abatementReducción de gases de escape
Rotary motionMovimiento rotatorio
Movement and heatingMovimiento y calefacción
125μm UHV fibre feedthroughsPasamuros UHV de fibra-óptica con fibra de 125 µm
UHV feedthrough with attached in-vacuum fibrePasamuros UHV de fibra-óptica con fibra
UHV couplerAcoplamiento para ultra alto vacío
High vacuum couplerAcoplamiento para alto vacío
Fibre optic feedthroughsPasamuros de fibras ópticas
AccessoriesAccesorios
Adaptors and special hardwareAdaptadores y hardware especial
ISOISO
KFKF
CFCF
Flanges and hardwareBridas y elementos de conexión
UHV angle valvesVálvulas de ángulo, UHV
Angle valvesVálvulas de ángulo
Transfer valvesVálvulas de transferencia
Gate valvesVálvulas de guillotina
ValvesVálvulas
Special purposesFunciones especiales
Special materialsMateriales especiales
For lasersPara láser
Fused silicaSílice fusionado
SapphireZafiro
StandardEstándar
ViewportsMirillas
Pre-fabricated cablesCables prefabricados
AccessoriesAccesorios
Insulated wiresCables aislados
Cables and connectorsCables y conectores
Power GlovePower Glove
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Medium currentCorriente medio
Medium voltageVoltaje medio
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