Fuentes de alimentación

Avactec es el distribuidor exclusivo en España y Portugal de los productos de “Power Delivery” de Advanced Energy.
A

dvanced Energy es líder global en tecnologías innovadores de energías para soluciones de rápido crecimiento y conversión de potencia de precisión
Los sistemas de Advanced Energy ayudan a las empresas de fabricación de película delgada e institutos de I + D, de todas partes del mundo, a impulsar su crecimiento e innovación.

 Nuestros productos de potencia ofrecen:

  • Control de plasma sin igual de potencia.
  • Incomparable manejo de arco de CC y RF.
  • Tecnología de punta de vanguardia.
  • Soluciones de entrega de energía líderes, integradas y probadas en el campo.

Sus productos se utilizan para:

  • Limpieza RF
  • Grabado metalico y dieléctrico
  • Photoresist incipiente
  • Deposición química de vapor: (CVD) / mejorada con plasma (PECVD)
  • Deposición física de vapor (PVD)
  • Deposición de Sputter

FUENTES DE CORRIENTE CONTINUA

Utilizados principalmente con procesos de deposición física de vapor (PVD), tanto chisporroteo metálico complejo como en combinación con un gas reactivo para formar capas dieléctricas de película delgada.

Los productos de alimentación de CC de AE ​​se han utilizado en

Semiconductor (cobre, aluminio, tántalo, titanio y materiales exóticos más nuevos)
Pantalla plana (transistor de película fina, filtro de color, LED orgánicos)
Almacenamiento de datos (almacenamiento óptico, almacenamiento magnético y combinaciones de almacenamiento magnetoóptico)

Celda solar fotovoltaica (óxidos conductores transparentes y deposición de Si)
Vidrio arquitectónico
Aplicaciones de productos avanzados (películas delgadas para óptica, revestimiento de herramientas, plásticos, etc.)

Serie Pinnacle®

Fuentes de alimentación refrigerados por aire
Rango: 6 a 200 kW

CARACTERÍSTICAS

Pinnacle® Plus

Fuente de alimentación CC, pulsada


Rango:
Ajustable de 5 a 350 kHz

CARACTERÍSTICAS

Pinnacle® 3000

Fuentes de alimentación refrigerados por aire
Rango: 3 kW

CARACTERÍSTICAS

Pinnacle® Diamond™

Fuentes de alimentación refrigerados por agua
Rango: 8 a 15 kW

CARACTERÍSTICAS

ASCENT® AMS

Fuentes de alimentación refrigerados por agua
Rango: 30 a 60 kW

CARACTERÍSTICAS

MDX 1 kW & 1.5 kW

Fuentes de alimentación refrigerados por aire
Rango: 1,0 a 1,5 kW

CARACTERÍSTICAS

MDX 500 kW

Fuentes de alimentación refrigerados por aire
Rango: 0,5 kW

CARACTERÍSTICAS

SOLVIX® DC

Fuentes de alimentación


Rango:
3 a 40 kW

CARACTERÍSTICAS

FUENTES DE CORRIENTE ALTERNA

Las fuentes de alimentación de baja y media frecuencia de Advanced Energy ofrecen una energía altamente eficiente y fácil de integrar para proceso de control mejorado en una amplia variedad de aplicaciones de deposición al vacío.

Fecuencia media PDX ®

Fuentes de alimentación de baja frecuencia de baja potencia (1250 y 1400 W) y alta potencia (5000 y 8000 W)

CARACTERÍSTICAS

Baja frecuencia PEII

Fuentes de alimentación de modulación por ancho de pulso de 40 kHz (PWM) con salidas de hasta 60 kW.

CARACTERÍSTICAS

Crystal®

Potencia rápida pero estable. Con granularidad de potencia de 60 a 180 kW.

CARACTERÍSTICAS

Generadores de RF LFGS

Fuentes de alimentación: Generador de frecuencia variable (1250 W, 40 a 500 kHz)

CARACTERÍSTICAS

ASCENT® DMS

¡Nuevo! El paquete Ascent DMS MF-120 ahora ofrece una potencia de frecuencia media rentable para cátodos estándar, al tiempo que ofrece beneficios de tecnología de pulsación bipolar.

CARACTERÍSTICAS

FUENTES DE ALIMENTACIÓN DE RF Y UNIDADES DE ADAPTACIÓN

La pulverización catódica usando una fuente de alimentación de RF tiene la ventaja de que se puede utilizar con blancos metálicos y no-metálicos y da mucha más alta calidad de la película cuando se compara con pulverización catódica CC. Sin embargo, la velocidad de pulverización catódica es baja (alrededor de 20% de la de CC) y el costo del equipo es mayor, porque una unidad de adaptación es necesaria, así como un suministro de potencia de RF.

Clique en los enlaces a la derecha para más detalles o acceda a la sección en la web de Advanced Energy

SISTEMAS RF

Nuestros generadores de RF y sistemas de suministro de potencia, junto con nuestras Matching Networks, funcionan extraordinariamente bien en procesos de fabricación de películas delgadas basadas en plasma.

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