oorfield Nanotechnology son especialistas en equipos de laboratorio del Reino Unido en PVD (deposición física de vapor), CVD (deposición química de vapor) y sistemas de grabado. Sus sistemas se utilizan para la investigación académica e industrial, incluyendo semiconductores, energía fotovoltaica, grafeno y materiales 2D.
El equipo de laboratorio científico de clase mundial de Moorfield está diseñado para satisfacer sus necesidades de investigación. También proporcionan asesoramiento en relación con un proyecto personalizado.
MiniLab
MiniLab 026
Las herramientas MiniLab 026 incluyen una bomba turbomolecular colocada en un puerto ISO100 en la parte trasera de la cámara de vacío. La base de la cámara de vacío se encuentra, como también, en el marco de soporte. La tapa de la cámara puede ser una tapa de estilo sombrero de acero inoxidable (es decir, para una disposición de cámara tipo «concha de almeja»), o un frasco de campana, similar al Edwards E306. Los sistemas pueden equiparse con una amplia variedad de técnicas de deposición.
Minilab060
Las herramientas se pueden equipar con una amplia variedad de técnicas de deposición, incluidas fuentes de evaporación térmicas y de baja temperatura (para metales y productos orgánicos), cátodos de pulverización catódica de magnetrón (para metales e inorgánicos) y fuentes de haz de electrones (para la mayoría de las clases de materiales, excepto los orgánicos). Las fuentes de deposición suelen montarse en la placa base de la cámara, pero también hay disponibles configuraciones de pulverización.
Minilab080
Las herramientas son ideales para técnicas de evaporación donde se requieren largas distancias de trabajo para una mejor uniformidad, y donde los ángulos de incidente de evaporación cercanos a 90° permiten resultados óptimos para las aplicaciones de despegue. Sin embargo, además de la evaporación térmica, LTE y de haz electrónico, las herramientas también se pueden instalar para la pulverización catódica con magnetrón (comúnmente como un sistema multitécnica).
Minilab125
Los sistemas MiniLab 125 son evaporadores de vacío de pie para la deposición de película delgada de metal, dieléctrico y/o orgánico. Todos los sistemas contienen una cámara de acero inoxidable tipo caja con una puerta frontal para cargar/descargar. Los grandes volúmenes de cámara permiten grandes fuentes para el recubrimiento a escala piloto o múltiples técnicas para una herramienta de I+D flexible. Los sistemas están disponibles equipados con todas las principales técnicas de deposición y etapas personalizadas para sustratos específicos.
nanoCVD
nanoCVD-8G
DEPOSICIÓN QUÍMICA DE VAPOR
Desarrollado en colaboración con grupos académicos, el nanoCVD-8G es un sistema de CVD de grafeno que proporciona un control preciso sobre condiciones como la presión, la temperatura y la química del gas, lo que es fundamental para la producción exitosa de grafeno.
Las unidades implementan la variante de pared fría del método CVD, lo que permite una reducción de la contaminación, bajos costos de funcionamiento y un mejor control en comparación con las contrapartes de horno de tubo.
nanoPVD
nanoPVD-S10A
El nanoPVD-S10A es un sistema de pulverización catódica de magnetrón lo suficientemente compacto como para estar ubicado en la mesa, pero que se puede equipar con fuentes de alimentación de CC y/o RF para la deposición de metales o materiales aislantes como óxidos o nitruros.
nanoPVD-ST15A
El último modelo de la gama nanoPVD de Moorfield, el modelo ST15A, ha sido diseñado específicamente para acomodar tanto la evaporación al vacío como las fuentes de pulverización catódica de magnetrón dentro de una sola cámara de proceso. Los tipos de fuentes disponibles son la evaporación a baja temperatura (LTE), la evaporación resistiva estándar y la pulverización catódica de magnetrón (objetivos de 2 pulgadas) para la deposición de productos orgánicos, dieléctricos y metales.
nanoPVD-T15A
El modelo T15A puede equiparse con fuentes de evaporación a baja temperatura (LTE) y evaporación resistiva estándar para la deposición de productos orgánicos y metales, respectivamente. Las fuentes LTE son de baja masa térmica para un mejor control al evaporar materiales orgánicos volátiles, mientras que las fuentes de metales son nuestros modelos TE1 blindados de caja para una deposición eficiente y una reducción de la contaminación cruzada.
nanoETCH
nanoETCH
GRASADO DE PLASMA
El nanoETCH es una herramienta de sobremesa equipada con una etapa de grabado de plasma de alta uniformidad y una fuente de alimentación de RF para la generación de plasma.
La herramienta se desarrolló originalmente en colaboración con el grupo de grafeno del Instituto Nacional de Grafeno de la Universidad de Manchester, Reino Unido. Este desarrollo fue impulsado por el requisito dentro de la comunidad de investigación de una herramienta de grabado que permitiera el grabado de precisión de materiales 2D sensibles, que no están disponibles en las herramientas RIE convencionales.